【招标公告】泉州师范学院物信学院镀膜实验室设备货物类采购项目公开招标招标公告

1-1

A02100399-其他光学仪器

镀膜机 （单探头）

1（套）

否

1、主要技术参数 （1）烘烤最高温度：350℃，用于除真空室内水汽。 （2）整机主要系统空载极限真空度达到3×10-4Pa。 （3）恢复真空度：4×10-3Pa，小于15分钟。 （4）电子枪：2支270度E型枪，功率8KW可调。 （5）膜厚控制仪：膜厚仪，单探头晶控系统。 （6）真空系统控制采用电脑+PLC，可实现整机系统连续自动镀膜和实时监控。 （7）分子泵与高阀之间配水冷冷阱。 （8）主要密封胶圈采用氟橡胶。 2、系统详细配置 （1）形式：箱式，立式前开门，蒸发室和抽气室为焊接式；主机与电控柜之间安装金属线槽（主要连接电线、软水管和软气管均放入金属线槽），并从主机与电控柜上方通过。 （2）真空腔体：内腔尺寸为Ф900mm（直径）。采用304不锈钢制造，内表面作抛光处理，外壁（包括高阀上端与真空室）通冷却水,内表面作抛光处理，外表面为直接焊不锈钢半圆水管（耐2-4公 斤水压）。箱体内衬不锈钢防污板（侧壁防污板厚度δ=1mm，室内下防污板厚度δ≧2.0mm，包括抽气口采用活动百叶窗两套，防污板为可拆卸式、便于清洗；真空室外壁配有水冷。真空室外壁采用多段水冷却。提高内表面光洁度，再进行焊接加工，焊接无堆积现象以减少气体负载。 在真空室顶部设置起重吊环。外壁通冷却水管，不锈钢材料，与真空室体外部焊接要求横平竖直，不锈钢材料，焊缝牢固可靠，整洁美观。箱体内表面要求先抛光处理后，提高内表面光洁度，再进行焊接加工，焊接无堆积现象以减少气体负载。 （3）真空室门：采用304不锈钢材料，内表面作抛光处理，外表面为直接焊不锈钢半圆水管，通冷却水冷却；真空室门上装有表面涂漆的外装饰板；真空室门上设观察窗2个，配置铅玻璃和可手动旋转的防护镜。采用先进的偏光技术可通过旋转玻璃角度来改变明亮度。真空室门采用气缸自动关门技术更快节省了镀膜时间。 （4）主机骨架:骨架前面有带锁的门；两侧有固定侧板。 （5）水冷却系统:主进、出水分配管采用不锈钢管制成，各主要冷却均单独供水冷却。进、出塑料软管有标识区分；对主泵、电子枪等加装水流保护，有断水报警。 （6）控电柜:采用并柜方式.一侧作为仪表安装柜,宽度为19英寸国际标准;另一侧作为电器元件安装柜,为前后开门大板式结构。极限真空度:3×10－4Pa（真空室洁净） （7）恢复真空时间:大气至4×10－3 Pa≤15min(空载) （8）保真空:真空室达到极限真空度后，关闭高真空阀一小时后，真空室真空度≤9×10－1Pa （9）真空系统配置:主泵：分子泵2台;罗茨泵1台（抽速150L/Sec）;前级泵: 双级直联泵1台（抽速约76L/Sec）;各真空阀门为气动阀门；配备防湍流装置(可减少真空室排大气时湍流对较轻工件的影响)装在真空窒底部；真空系统管道采用不锈钢材料，管道软连接处采用金属波纹管；能实现对真空腔体的快慢放气，充气阀口装配过滤器； （10）真空系统测量：配三路数字复合真空计壹套（两路低真空电阻规，一路高真空电离规）；带压强控制仪功能。高真空电离规安装在真空箱体抽气室顶部靠近工作室一侧；预留冷阱检测接口；低真空电阻规一组安装在真空箱体抽气室顶部靠近工作室一侧，另一路安装在前级管道式，用于分子泵的启动及保护信号检测。真空规管均采用金属规管。 （11）系统操作：有手动和程序自动两种模式；PLC控制所有泵阀动作；高阀、低阀、预阀，到位信号送入PLC控制信号；PLC程序带故障报警功能，如气压、水流、机械泵等保护及报警。 （12）测试方法：按照GB11164真空镀膜机通用技术条件执行。 （13）工件架：三伞型工件盘夹具两套（不锈钢材料，开孔尺寸用户一个月内）。 （14）工件架旋转：转速3～30rpm，交流变频调速，上驱动方式。工件盘轴向、径向跳动小于等于±3mm；转动支承部位配有水冷套。磁流体密封。 （15）烘烤系统：桶状上烘烤。上烘烤加热器采用管状加热器。配温控仪，仪表控制精度为±1℃，控温方式为一点控温PID自动控温及显示。烘烤功率：8KW。温度：最高350℃，温度可控可调；烘烤温度均匀性：设定温度±5℃。 （16）电子束蒸发源（双枪单电源）：加速电压：负 6-9kV；最大电流：？0.5A（此时的加速电压是-9kV）电子束偏转角：270°（永磁铁）；X扫描电流：±3A可调、10HZ-250HZ ；Y扫描电流：±3A可调 10HZ-250HZ。 （17）坩埚：直接水冷；右枪六穴直冷坩埚一套，坩埚衬套尺寸：Φ40*17，电动转位和点动转位（配坩埚衬套6个），驱动方式为步进电机；左枪为环形直冷坩埚一套，坩埚尺寸与右枪对称，驱动方式为步进电机， 转速可调。备有有线遥控盒手持操作；可开关高压，调节束流、开关挡板、带坩埚显示、束流显示等。配2套气动挡板机构，转动角度一定范围内可调，挡板为插入式。配2套固定式修正挡板，可调节高度及角度，安装在左、右电子枪上方。 （18）阻蒸：一组，电压12V，功率10KW 。 （19）晶体控制仪：膜厚仪，一台配单探头，一台配六探头，并配相应的控制系统，采用电脑膜系编辑导入。（a）控制电子束蒸发源蒸发速率。（b）控制及电子束蒸发源挡板。（c）控制材料充气。（d）控制电子枪坩埚的转动。可控制自动实现整个镀膜工艺。 （20）离子源辅助：配离子源 1台 （21）充气系统：配两路“山武”质量流量计，流量控制范围4～200SCCM。带压强控制功能，可实现每个坩埚不同的真空度，在-3 Pa范围可控。 （22）电气控制系统：PLC+电脑对设备真空系统、蒸发源系统、烘烤系统、工件转动系统、晶控膜厚监控系统等进行监测和控制，实现真空系统及晶控镀膜过程自动控制，安全报警及故障信息显示，并通过文字方式提示。控电柜面板下方安装两个单相220V、10A电源插座。水、电、气路有故障自动报警和保护系统。 （23）设备颜色：采用标准色标。

551800

1-2

A02100399-其他光学仪器

镀膜机 （六探头）

1（套）

否

1、主要技术参数 （1）烘烤最高温度：350℃，用于除真空室内水汽。 （2）整机主要系统空载极限真空度达到3×10-4Pa。 （3）恢复真空度：4×10-3Pa，小于15分钟。 （4）电子枪：2支270度E型枪，功率8KW可调。 （5）膜厚控制仪：膜厚仪，六探头晶控系统。 （6）真空系统控制采用电脑+PLC，可实现整机系统连续自动镀膜和实时监控。 （7）分子泵与高阀之间配水冷冷阱。 （8）主要密封胶圈采用氟橡胶。 2、系统详细配置。 （1）形式：箱式，立式前开门，蒸发室和抽气室为焊接式；主机与电控柜之间安装金属线槽（主要连接电线、软水管和软气管均放入金属线槽），并从主机与电控柜上方通过。 （2）真空腔体：内腔尺寸为Ф900mm（直径）。采用304不锈钢制造，内表面作抛光处理，外壁（包括高阀上端与真空室）通冷却水,内表面作抛光处理，外表面为直接焊不锈钢半圆水管（耐2-4公 斤水压）。箱体内衬不锈钢防污板（侧壁防污板厚度δ=1mm，室内下防污板厚度δ≧2.0mm，包括抽气口采用活动百叶窗两套，防污板为可拆卸式、便于清洗；真空室外壁配有水冷。真空室外壁采用多段水冷却。提高内表面光洁度，再进行焊接加工，焊接无堆积现象以减少气体负载。在真空室顶部设置起重吊环。外壁通冷却水管，不锈钢材料，与真空室体外部焊接要求横平竖直，不锈钢材料，焊缝牢固可靠，整洁美观。箱体内表面要求先抛光处理后，提高内表面光洁度，再进行焊接加工，焊接无堆积现象以减少气体负载。 （3）真空室门：采用304不锈钢材料，内表面作抛光处理，外表面为直接焊不锈钢半圆水管，通冷却水冷却；真空室门上装有表面涂漆的外装饰板；真空室门上设观察窗2个，配置铅玻璃和可手动旋转的防护镜。采用先进的偏光技术可通过旋转玻璃角度来改变明亮度。真空室门采用气缸自动关门技术更快节省了镀膜时间。 （4）主机骨架:骨架前面有带锁的门；两侧有固定侧板。 （5）水冷却系统:主进、出水分配管采用不锈钢管制成，各主要冷却均单独供水冷却。进、出塑料软管有标识区分；对主泵、电子枪等加装水流保护，有断水报警。 （6）控电柜:采用并柜方式.一侧作为仪表安装柜,宽度为19英寸国际标准;另一侧作为电器元件安装柜,为前后开门大板式结构。极限真空度:3×10－4Pa（真空室洁净） （7）恢复真空时间:大气至4×10－3 Pa≤15min(空载) （8）保真空:真空室达到极限真空度后，关闭高真空阀一小时后，真空室真空度≤9×10－1Pa （9）真空系统配置:主泵：分子泵2台;罗茨泵1台（抽速150L/Sec）;前级泵: 双级直联泵1台（抽速约76L/Sec）;各真空阀门为气动阀门；配备防湍流装置(可减少真空室排大气时湍流对较轻工件的影响)装在真空窒底部；真空系统管道采用不锈钢材料，管道软连接处采用金属波纹管；能实现对真空腔体的快慢放气，充气阀口装配过滤器。 （10）真空系统测量：配三路数字复合真空计壹套（两路低真空电阻规，一路高真空电离规）；带压强控制仪功能。高真空电离规安装在真空箱体抽气室顶部靠近工作室一侧；预留冷阱检测接口；低真空电阻规一组安装在真空箱体抽气室顶部靠近工作室一侧，另一路安装在前级管道式，用于分子泵的启动及保护信号检测。真空规管均采用金属规管。 （11）系统操作：有手动和程序自动两种模式；PLC控制所有泵阀动作；高阀、低阀、预阀，到位信号送入PLC控制信号；PLC程序带故障报警功能，如气压、水流、机械泵等保护及报警。 （12）测试方法：按照GB11164真空镀膜机通用技术条件执行。 （13）工件架：三伞型工件盘夹具两套（不锈钢材料，开孔尺寸用户一个月内）。 （14）工件架旋转：转速3～30rpm，交流变频调速，上驱动方式。工件盘轴向、径向跳动小于等于±3mm；转动支承部位配有水冷套。磁流体密封。 （15）烘烤系统：桶状上烘烤。上烘烤加热器采用管状加热器。配温控仪，仪表控制精度为±1℃，控温方式为一点控温PID自动控温及显示。烘烤功率：8KW。温度：最高350℃，温度可控可调；烘烤温度均匀性：设定温度±5℃。 （16）电子束蒸发源（双枪单电源）：加速电压：负 6-9kV；最大电流：？0.5A（此时的加速电压是-9kV）电子束偏转角：270°（永磁铁）；X扫描电流：±3A可调、10HZ-250HZ ；Y扫描电流：±3A可调 10HZ-250HZ。 （17）坩埚：直接水冷；右枪六穴直冷坩埚一套，坩埚衬套尺寸：Φ40*17，电动转位和点动转位（配坩埚衬套6个），驱动方式为步进电机；左枪为环形直冷坩埚一套，坩埚尺寸与右枪对称，驱动方式为步进电机， 转速可调。备有有线遥控盒手持操作；可开关高压，调节束流、开关挡板、带坩埚显示、束流显示等。配2套气动挡板机构，转动角度一定范围内可调，挡板为插入式。配2套固定式修正挡板，可调节高度及角度，安装在左、右电子枪上方。 （18）阻蒸：一组，电压12V，功率10KW 。 （19）晶体控制仪：膜厚仪，一台配单探头，一台配六探头，并配相应的控制系统，采用电脑膜系编辑导入。（a）可控制电子束蒸发源蒸发速率。（b）可控制及电子束蒸发源挡板。（c）可控制材料充气。（d）可控制电子枪坩埚的转动。可控制自动实现整个镀膜工艺。 （20）离子源辅助：配离子源 1台 （21）充气系统：配两路“山武”质量流量计，流量控制范围4～200SCCM。带压强控制功能，可实现每个坩埚不同的真空度，在-3 Pa范围可控。 （22）电气控制系统：PLC+电脑对设备真空系统、蒸发源系统、烘烤系统、工件转动系统、晶控膜厚监控系统等进行监测和控制，实现真空系统及晶控镀膜过程自动控制，安全报警及故障信息显示，并通过文字方式提示。控电柜面板下方安装两个单相220V、10A电源插座。水、电、气路有故障自动报警和保护系统。 （24）设备颜色：采用标准色标。

610300

1-3

A02100399-其他光学仪器

冷水机

1（台）

否

（1）温度：23-25℃ （2）流量：≥16m3/h （3）压力：0.3-0.35MPa （4）控制：PLC自动控制 （5）管道：采用台塑南亚管件，外套保温棉

67400

1-4

A02100399-其他光学仪器

喷砂机

1（台）

否

（1）内置：带装盘，带推车 （2）电压：220V 50HZ （3）功率：≥600W

16700

1-5

A02100399-其他光学仪器

真空专用铝箔

1（台）

否

（1）尺寸：≥0.03*620mm （2）重量：≥50Kg

3800