应泉州师范学院光子技术研究中心邀请，中国科学技术大学教授王亮博士于
学术报告中，王亮博士介绍了光刻(lithography)，镀膜(PVD,CVD)，等离子刻蚀(RIE)等纳米工艺及亲自参与的量子芯片整体流程开发，质量控制/检测以及对芯片整体架构设计的工作经历，与大家分享了丰富的公司管理和将研究成果产业化的经验；着重介绍了目前的研发成果及路演项目。王亮博士还与师生们进行了相关学术问题的互动，与光子中心在科研项目合作方面进行了深入的探讨。
王亮博士于2008年5月在全美最佳工程学院之一的美国普渡大学机械工程系获得博士学位。毕业后前往德克萨斯州澳士汀参与创立了分子制膜公司(Molecular Imprints)，是该公司最早期的20名员工之一,负责纳米压印光刻工艺的开发,该公司后成功被日本佳能公司收购.2011年初赴美国硅谷加入半导体微纳设备制造商科林研发公司（Lam Research Corp， 纳斯达克上市代码：LRCX）担任主任工程师，负责与全球最大的半导体芯片供应商台积电（TSMC）共同开发20nm的芯片工艺。2013年初进入IBM/Global foundries 于纽约上州的芯片工厂， 任职技术经理负责14nm芯片的整体工艺流程开发。2014年9月全职回国任中国科学技术大学教授/博士生导师。
王亮博士近年有20多篇学术论文发表在国际刊物上，被引用超过500次。申请和获得国际专利10项，同时应美国科学出版社邀请撰写 “Nanomanufacturing” 一章。应邀为多个国际权威杂志的特约审稿人包括Physics Review Letters, Optics letters, Nanotechnology, Optics Express等。
王亮博士熟悉纳米工艺开发和大规模生产，有在国际大公司的研发和生产部门8年以上的工作经验。他提出的多项技术已经取得国际专利授权，并已经被多家顶级科技公司采用,如希捷，西部数据，佳能和东芝等。
（段亚凡 文/图）